基本信息
| 标准名称： | 离子束蚀刻机通用技术条件 |
| 英文名称： | Generic specification of ion beam etching system |
| 中标分类： | 电子元器件与信息技术 >> 电子工业生产设备 >> 加工专用设备 |
| ICS分类： | 电子学 >> 集成电路、微电子学 |
| 替代情况： | 被GB/T 15861-2012代替 |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1995-01-02 |
| 实施日期： | 1996-08-01 |
| 首发日期： | 1995-12-22 |
| 作废日期： | 2013-02-15 |
| 主管部门： | 信息产业部（电子） |
| 归口单位： | 信息产业部（电子） |
| 起草单位： | 电子部长沙半导体工艺设备所 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 1900-01-01 |
| 页数： | 平装16开， 页数：10， 字数：15千字 |
适用范围
本标准规定了离子束蚀刻机的术语、产品分类、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输、贮存等。本标准适用于物理溅射腐蚀作用的通用离子束蚀刻机。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 电子元器件与信息技术 电子工业生产设备 加工专用设备 电子学 集成电路 微电子学